News center资讯中心

125587

资讯中心

光刻机两大核心技术已攻克其一, 高速转精度达

作者:大时代娱乐2018-06-04

光刻的两大核心技术

光刻技术有两种核心技术:一种是EUV曝光系统,另一种是双组分阶段。EUV曝光系统,中国仍然相对落后,主要是长春光学机械的领先研发,经过8年的艰苦研发,目前可以建成32纳米级芯片曝光系统已经成功研制成功。中国虽然尚未起步,但已为EUV曝光系统的关键技术建立了完整的研发平台。中国已经取得了重大突破,成为世界第二个掌握这项技术的国家。

光刻机双工作台与单工作台的区别

双级技术是高端光刻技术的两大核心技术之一。目前,只有荷兰ASML大规模生产,中国还生产了两个原型,美国和日本还没有这项技术。美国和日本的单台工作台生产速度差,每小时80片,双工作台的生产速度高达每小时270~300片。效率在地面上。这就是为什么荷兰ASML光刻是如此昂贵,它仍然可以占据超过90%的全球光刻市场份额。双工作台的优点是一个非常重要的原因。

 

中国光刻双工作台的强度

中国65纳米干式光刻机已收到6个订单。需要双工件的浸没式光刻机的两阶段原型已经发布,但它将首次交付给客户将不得不等到2019。双级平台的研发完全是自主知识产权,已获得国家补贴的4亿2000万。只要钱够了,中国的研发实力还是很强的。中国的光刻机双工件平台,事实上,在荷兰只有一个竞争对手。

光刻双级阶段被称为超精密技术王冠上的明珠,具有高精度和高速度。在高速的情况下,中国的双工部分也能达到2 nm的精度,接近荷兰双级的精度。

 
 

中国的短版光刻技术

荷兰ASML已经完全垄断了高端光刻技术。荷兰是唯一一个EUV光刻的国家,已经完全掌握了两个核心技术。光刻镜头有来自德国的强大支持,能够生产3纳米芯片,世界上第一个支持双工平台。

EUV曝光系统是中国高端光刻的短板,日本的曝光系统,可以支持20纳米芯片生产,比中国的32纳米更先进。但日本高端光刻双平台尚未开发,因为在两个核心技术远远落后于荷兰ASML,日本放弃了更高端的光刻技术的研发。也就是说,只有中国没有放弃对荷兰ASML的追求,并没有放弃在20纳米的高端光刻机的发展。

只要中国是耐心和持久的,它将补充高端光刻技术。在5年内,将有机会建造一个高端光刻机,领先美国和日本一次在荷兰,它将在10年内完成,在15。

标签:大时代娱乐  大时代娱乐平台 大时代娱乐注册 大时代平台登录
友情链接: 大时代娱乐 网站地图
地址:上海
Copyright © 2014-2020【大时代娱乐】版权所有